Theresia Knobloch

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Tibor GrasserProfessor at TU Wien, Head of Institute for Microelectronics, Fellow IEEEBestätigte E-Mail-Adresse bei iue.tuwien.ac.at
Yury Illarionov (Юрий Юрьевич Илла...Southern University of Science and Technology (SUSTech)Bestätigte E-Mail-Adresse bei sustech.edu.cn
Michael WaltlFull Professor at TU Wien, Vienna, AustriaBestätigte E-Mail-Adresse bei iue.tuwien.ac.at
Thomas MuellerVienna University of TechnologyBestätigte E-Mail-Adresse bei tuwien.ac.at
Gerhard RzepaGlobal TCAD SolutionsBestätigte E-Mail-Adresse bei globaltcad.com
Mario LanzaIEEE Fellow | Associate Professor at National University of SingaporeBestätigte E-Mail-Adresse bei kaust.edu.sa
Dominic WaldhörPostdoctoral Researcher, Institute for Microelectronics, TU WienBestätigte E-Mail-Adresse bei iue.tuwien.ac.at
Nikolai SokolovLeader of research group at Ioffe Institute of Russian Academy of SciencesBestätigte E-Mail-Adresse bei fl.ioffe.ru
Max C. LemmeProfessor, RWTH Aachen University, Germany, Director, AMO GmbHBestätigte E-Mail-Adresse bei eld.rwth-aachen.de
Dmitry PolyushkinPhotonics Institute, TU WienBestätigte E-Mail-Adresse bei tuwien.ac.at
Ben KaczerimecBestätigte E-Mail-Adresse bei imec.be
Alexander Grillprinciple researcher, imecBestätigte E-Mail-Adresse bei imec.be
Eric PopPease-Ye Professor of Electrical Engineering, MSE, AP at Stanford & SLACBestätigte E-Mail-Adresse bei stanford.edu
Joerg AppenzellerProfessor of Electrical and Computer Engineering, Purdue UniversityBestätigte E-Mail-Adresse bei purdue.edu
Saptarshi DasAckley Professor of Engineering, Pennsylvania State UniversityBestätigte E-Mail-Adresse bei psu.edu
Deji AkinwandeThe University of Texas at Austin, IEEE, MRS, APS, AAS FellowBestätigte E-Mail-Adresse bei ece.utexas.edu
Mathieu LuisierETH ZurichBestätigte E-Mail-Adresse bei iis.ee.ethz.ch
Zhihong ChenPurdue UniversityBestätigte E-Mail-Adresse bei purdue.edu
Uygar E. AvciComponents Research, Intel Corp.Bestätigte E-Mail-Adresse bei intel.com
Burkay UzluResearch Scientist, RWTH UniversityBestätigte E-Mail-Adresse bei amo.de

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Theresia Knobloch

Researcher, TU Wien

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Nanoelectronics Defects 2D Materials Device Modeling Reliability


Titel Nach Zitationen sortieren Nach Jahr sortieren Nach Titel sortieren	Zitiert von Zitiert von	Jahr
Transistors based on two-dimensional materials for future integrated circuits S Das, A Sebastian, E Pop, CJ McClellan, AD Franklin, T Grasser, ... Nature Electronics 4 (11), 786-799, 2021	604	2021
Insulators for 2D nanoelectronics: the gap to bridge YY Illarionov, T Knobloch, M Jech, M Lanza, D Akinwande, MI Vexler, ... Nature communications 11 (1), 3385, 2020	405	2020
The performance limits of hexagonal boron nitride as an insulator for scaled CMOS devices based on two-dimensional materials T Knobloch, YY Illarionov, F Ducry, C Schleich, S Wachter, K Watanabe, ... Nature Electronics 4 (2), 98-108, 2021	274	2021
Ultrathin calcium fluoride insulators for two-dimensional field-effect transistors YY Illarionov, AG Banshchikov, DK Polyushkin, S Wachter, T Knobloch, ... Nature Electronics 2 (6), 230-235, 2019	245	2019
The role of charge trapping in MoS2/SiO2 and MoS2/hBN field-effect transistors YY Illarionov, G Rzepa, M Waltl, T Knobloch, A Grill, MM Furchi, T Mueller, ... 2D Materials 3 (3), 035004, 2016	236	2016
Comphy—A compact-physics framework for unified modeling of BTI G Rzepa, J Franco, B O’Sullivan, A Subirats, M Simicic, G Hellings, ... Microelectronics Reliability 85, 49-65, 2018	189	2018
Improved Hysteresis and Reliability of MoS₂ Transistors With High-Quality CVD Growth and Al₂O₃ Encapsulation YY Illarionov, KKH Smithe, M Waltl, T Knobloch, E Pop, T Grasser IEEE Electron Device Letters 38 (12), 1763-1766, 2017	118	2017
Improving stability in two-dimensional transistors with amorphous gate oxides by Fermi-level tuning T Knobloch, B Uzlu, YY Illarionov, Z Wang, M Otto, L Filipovic, M Waltl, ... Nature Electronics 5 (6), 356-366, 2022	78	2022
Characterization of Single Defects in Ultrascaled MoS₂ Field-Effect Transistors B Stampfer, F Zhang, YY Illarionov, T Knobloch, P Wu, M Waltl, A Grill, ... ACS nano 12 (6), 5368-5375, 2018	77	2018
Energetic mapping of oxide traps in MoS2 field-effect transistors YY Illarionov, T Knobloch, M Waltl, G Rzepa, A Pospischil, DK Polyushkin, ... 2D Materials 4 (2), 025108, 2017	71	2017
Highly-stable black phosphorus field-effect transistors with low density of oxide traps YY Illarionov, M Waltl, G Rzepa, T Knobloch, JS Kim, D Akinwande, ... npj 2D Materials and Applications 1 (1), 23, 2017	67	2017
A Physical Model for the Hysteresis in MoS₂ Transistors T Knobloch, G Rzepa, YY Illarionov, M Waltl, F Schanovsky, B Stampfer, ... IEEE Journal of the Electron Devices Society 6, 972-978, 2018	64	2018
Dielectric Properties of Ultrathin CaF₂ Ionic Crystals C Wen, AG Banshchikov, YY Illarionov, W Frammelsberger, T Knobloch, ... Advanced Materials 32 (34), 2002525, 2020	61	2020
Reliability of scalable MoS2 FETs with 2 nm crystalline CaF2 insulators YY Illarionov, AG Banshchikov, DK Polyushkin, S Wachter, T Knobloch, ... 2D Materials 6 (4), 045004, 2019	44	2019
Impact of layer and substrate properties on the surface acoustic wave velocity in scandium doped aluminum nitride based SAW devices on sapphire M Gillinger, K Shaposhnikov, T Knobloch, M Schneider, M Kaltenbacher, ... Applied physics letters 108 (23), 2016	40	2016
Perspective of 2D integrated electronic circuits: Scientific pipe dream or disruptive technology? M Waltl, T Knobloch, K Tselios, L Filipovic, B Stampfer, Y Hernandez, ... Advanced Materials 34 (48), 2201082, 2022	38	2022
Piezoelectricity in two dimensions: Graphene vs. molybdenum disulfide X Song, F Hui, T Knobloch, B Wang, Z Fan, T Grasser, X Jing, Y Shi, ... Applied Physics Letters 111 (8), 2017	35	2017
Efficient physical defect model applied to PBTI in high-κ stacks G Rzepa, J Franco, A Subirats, M Jech, A Chasin, A Grill, M Waltl, ... 2017 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), XT-11.1-XT-11.6, 2017	34	2017
Challenges for nanoscale CMOS logic based on two-dimensional materials T Knobloch, S Selberherr, T Grasser Nanomaterials 12 (20), 3548, 2022	28	2022
Incorporating Niobium in MoS₂ at BEOL‐Compatible Temperatures and its Impact on Copper Diffusion Barrier Performance R Zhao, CL Lo, F Zhang, RK Ghosh, T Knobloch, M Terrones, Z Chen, ... Advanced Materials Interfaces 6 (22), 1901055, 2019	23	2019

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